半導體工業用炭石墨制品的使用與挑選
    半導體工業是新興的科學技術，近年來受到了人們極大地重視，被認為是20世紀60年代與原子能同等重要的科學新成就。而半導體技術的開展與石墨資料在半導體工業中的應用是分不開的。在半導體工業中首要選用高純石墨資料制造單晶爐石墨加熱體系、電子器件燒結模具、絕緣子燒結模具、可控硅管燒結模具等。
    單晶爐用炭石墨制品，石墨加熱器。對單晶爐加熱體系的要求是可以保證供給滿足的熱量，使硅、儲等迅速熔化，同時應能保證精細而方便地調節溫度。故加熱一般選用電阻和高頻加熱兩種常用的電阻加熱首要包括一個變壓器和一個石墨加熱器。常見的石墨加熱器形狀有杯形、直筒形、螺旋形。石墨制品加熱器的尺寸、形狀、開槽高度首要考慮熔料多少和有利于拉晶，其電阻值要和變壓器遠配。加熱器內徑和高度的挑選，原則是使熔硅時，石墨托上部坐落加熱器高溫區，拉制晶體時，石墨托底部坐落加熱器高溫區。加熱器高溫區長短和加熱器開槽長短有關。加熱器內徑和高度決議后，依據變壓器輸出功率來決議加熱器片厚，如變壓器最大輸出功率15AW,最大輸出電壓48”，則要求加熱器電阻值最好為0.152。再依據R一的4求出加熱器片厚t，b為寬度，L為長度。單晶爐炭石墨制品加熱體系。