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高溫提純爐用石墨坩堝:應用場景與維護要點

發布作者:jcadmin      發布時間:2025年09月26日

高溫提純爐用石墨坩堝:運用場景與維護要害
    高溫提純爐用石墨坩堝憑仗一起功用,在多個高純度材料生產領域發揮著要害作用,而科學的運用與維護方法,更是延伸其壽數、保證提純質量的中心。
    需求高溫提純爐用石墨坩堝。
    在光伏與半導體領域,它是多晶硅定向凝結提純的 “中心容器”。當硅料在坩堝內被加熱至 1420℃熔融情況時,超高純石墨材料避免了雜質搬遷,合作坩堝內壁的不粘特性,使硅料與坩堝分別時減少殘留,終究取得純度 99.9999% 以上的電子級多晶硅。在化合物半導體(如磷化銦、氮化鎵)提純中,坩堝的化學慵懶可避免物料與容器產生反響,保證化合物成分安穩。
    稀有金屬提純場景中,該坩堝相同表現杰出。提純鉭、鈮等難熔金屬時,爐內溫度常達 2500℃以上,石墨坩堝的耐高溫特性使其可重復運用數十次而不變形。在真空蒸餾提純稀土金屬時,坩堝的氣密性規劃減少了揮發物損失,進步金屬回收率達 98% 以上。
    正確的維護方法能顯著進步坩堝運用壽數。初度運用前,需在慵懶氣體維護下進行梯度預熱(從 200℃逐步升至 1000℃),完全去除吸附的水分與氣體,避免高溫下產生爆裂。每次運用后,應待坩堝自然冷卻至室溫,再用專用毛刷整理內壁殘留物料,制止運用硬質東西刮擦,避免損壞表面光潔度。
    存儲時需注意防潮防磕碰,應將坩堝垂直放置在單調通風的專用支架上,避免堆疊受壓。若長期停用,需用鋁箔包裹密封,避免空氣中的雜質附著。對于呈現纖細裂紋的坩堝,應立即停用替換,避免在高溫下裂紋擴展導致物料泄露,影響提純作用甚至引發安全事故。

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